双面软板
当FPC线路无法以单层线路完成或者其中线路有跨线需要时,增加导体层数以增加线路连接之密集度以连成设计需求,成为必要的手段。双面板为双层导体利用接着剂批附在软性基材上,其间双层导体之连结可透过电镀通孔、焊锡填孔凸块等方式进行层间连通。利用有胶基板材料完成之双面板,其侧视结构可参考图1-1.
图1-1:双面软板结构的示意
双面软板层间连结最普遍常见的是电镀通孔方式,在基板上先进行通孔的形成,可以机械钻孔也可以镭射钻孔进行,依孔径大小及线路密集度而定,也可以用模具冲洗,通孔再以电浆蚀刻或化学蚀刻方式完成;孔壁清洁及粗化处理;接着在孔表面进行金属化处理,可采用化学镀铜、导电碳膜(黑化)或黑影制程,完成以后电镀制程将铜厚增加到所需厚度,如此便完成双层导体间之连通。
随着高密度线路需求,电镀通孔可设计为全面电镀与部分电镀两种。全面电镀会使面铜增厚,不利细线路制作能力,在动态应用上也容易产生内应力,使铜箔疲劳而断裂;部分电镀只在通孔处进行电镀制程,利用遮蔽材料将通孔以外区域覆盖起来,如此一来,可完成两导体层之连通又不影响细线路能力及动态应用的信赖性。
层间连通技术常见的还有盖孔式(Tenting)、导电材料填孔式及高分子厚膜技术填孔式等,可依照精度需求及导电能力要求选择适当制程,只要能使导体层互连,任何方式都可以尝试,但考量到制程稳定度、制程适用性及经济规模,电镀通孔仍是应用最为广泛的技术,其他技术的普及性仍不高。
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